Учёные из Северо-восточного педагогического университета Китая (Northeast Normal University) разработали покрытие для хлопкового волокна, которое отталкивает влагу и защищает кожу от вредного ультрафиолетового излучения.
Используя водоотталкивающие и УФ-блокирующие свойства наностержней окиси цинка, исследователи создали покрытие для ткани, которое не только повторяет водоотталкивающую структуру листка лотоса, но и имеет очень высокий уровень защиты от ультрафиолетового излучения – 101.51, что является значительным результатом.
В предыдущих исследованиях учёные создали самоочищающиеся, УФ-отталкивающие ткани посредством нанесения поверхностного слоя плёнок диоксида титана и окиси цинка. Однако руководитель нового исследования Линглинг Венг (Lingling Wang) и его команда решили усовершенствовать хлопчатобумажные изделия при помощи наностержней и кристаллитов окиси цинка, и полученный ими материал оказался более стойким по сравнению с предыдущим. Он получил способность блокировать более широкий диапазон УФ-излучений.
Но для этого учёным пришлось подавить фотоактивность окиси цинка, который вступает в реакцию с солнечным светом так, что нарушает водоотталкивающую природу стержней.
Чтобы избежать этого процесса, исследователи покрыли стержни кремниевой оболочкой, которая не только эффективно блокирует фотоактивность окиси цинка, но и помогает ему поддерживать гидрофобность.
Источник: news.discovery.com